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台积电加速发展新工艺:目前3nm EUV工艺进展顺利,已有早期客户参与

时间:2019-08-13

  01:40:49超能网

  近两先进的半导体制造业终于迎来了EUV光刻机,这使得7nm之后的工艺继续发展。台积电和三星都计划了自己的工艺开发,现在两家已逐步开始大规模生产7nm EUV工艺,其次是5nm工艺和3nm工艺。根据Anandtech的报告,尽管我们只能在今年下半年看到7nm EUV工艺生产的芯片,但台积电的3nm EUV工艺发展顺利,并且已经有了早期的客户参与。

在早期的报告中,台积电目前的N3工艺(N3是台积电的3nm工艺)进展顺利,并且已经与早期客户一起参与技术定义。与此同时,台积电首席执行官魏哲佳表示,他希望3nm工艺能够在未来继续保持台积电的发展。

除了路线图之外,这也与TSMC相关的3nm工艺有关,但很明显目前的3nm工艺仍处于开发阶段,5nm工艺在未来更接近我们。虽然台积电在7nm工艺中处于领先地位,但三星也赶上了7nm EUV节点,计划在2021年推出3nm GAA工艺,这意味着台积电和三星再次进入EUV工艺节点。几乎相同的起跑线。

虽然未来5G,高性能计算等方面需要更先进的工艺技术,但先进的工艺生产线和芯片设计成本也在迅速增加。据报道,三星已收到7nm EUV工艺中许多制造商的订单。三星逐渐赶上了这个流程节点,所以现在也准备好让台积电的客户参与,以确保它不会在未来出现。 7nm EUV工艺中客户流失的问题。

在过去两年中,先进的半导体制造终于迎来了EUV光刻机,这使得7nm工艺的发展得以继续。台积电和三星都计划了自己的工艺开发,现在两家已逐步开始大规模生产7nm EUV工艺,其次是5nm工艺和3nm工艺。根据Anandtech的报告,尽管我们只能在今年下半年看到7nm EUV工艺生产的芯片,但台积电的3nm EUV工艺发展顺利,并且已经有了早期的客户参与。

在早期的报告中,台积电目前的N3工艺(N3是台积电的3nm工艺)进展顺利,并且已经与早期客户一起参与技术定义。与此同时,台积电首席执行官魏哲佳表示,他希望3nm工艺能够在未来继续保持台积电的发展。

除了路线图之外,这也与TSMC相关的3nm工艺有关,但很明显目前的3nm工艺仍处于开发阶段,5nm工艺在未来更接近我们。虽然台积电在7nm工艺中处于领先地位,但三星也赶上了7nm EUV节点,计划在2021年推出3nm GAA工艺,这意味着台积电和三星再次进入EUV工艺节点。几乎相同的起跑线。

虽然未来5G,高性能计算等方面需要更先进的工艺技术,但先进的工艺生产线和芯片设计成本也在迅速增加。据报道,三星已收到7nm EUV工艺中许多制造商的订单。三星逐渐赶上了这个流程节点,所以现在也准备好让台积电的客户参与,以确保它不会在未来出现。 7nm EUV工艺中客户流失的问题。

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